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 等离子刻蚀机-等离子沉积设备-离子束刻蚀机-离子束沉积设备|深圳易科微等离子刻蚀与沉积工艺设备商 首页 产品展示 服务支持 新闻资讯 关于我们 中文 简体中文 English 易科微电子(深圳)有限公司 为全球高端制造行业提供 Efficient, preciseand reliable solutions 高效、精准、可靠的解决方案 为全球高端制造行业提供 Efficient, preciseand reliable solutions 高效、精准、可靠的解决方案 为全球高端制造行业提供 Efficient, preciseand reliable solutions 高效、精准、可靠的解决方案 向下滚动 企业概况 易科微    电子(深圳)有限公司 探索更多 易科微电子（深圳）有限公司（简称“易科微”），是为工业和科研提供半导体设备、低温等离子设备、分析设备等技术解决方案的企业。公司自成立以来，秉承“创新驱动发展，科技引领未来”的理念，致力于为全球半导体、微电子、光伏、材料科学及精密制造等行业提供高效、精准、可靠的解决方案。易科微不仅为客户提供高质量的设备，还提供全方位的售前咨询、技术培训、安装调试及售后支持服务，确保客户在使用过程中获得最佳体验与最大价值。 易科微企业宣传片 易科微产品 为工业和科研提供半导体设备、低温等离子设备、分析设备等技术解决方案 等离子刻蚀机 等离子沉积设备 离子束刻蚀机 离子束沉积设备 精密元器件 RIE反应离子刻蚀机（双腔） PL-800(RIE) 反应离子刻蚀机是半导体工艺中的核心设备之一。在半导体制造工艺中，它利用等离子体能量对硅片进行精细加工，是制造微电子器件的关键步骤。等离子刻蚀机具有高度的精度，可以在微观水平上创建极其复杂的图案。等离子体蚀刻机在半导体行业中的应用非常广泛。它不仅可以用于蚀刻半导体材料，如硅和磷等，还可以用于制造芯片和电路。此外，反应离子刻蚀机还在微电子、微机电系统(MEMS)和纳米技术应用制造等领域发挥着重要作用。 探索更多 ICP电感耦合等离子刻蚀机(单腔） PL-200(ICP) 电感耦合等离子刻蚀机在多个领域有着广泛的应用，主要包括有，在电子与通信技术领域可用于二氧化硅、应变硅、碳化硅、多晶硅栅结构、III-V族化合物等半导体材料的刻蚀，以及金属导线、金属焊垫等金属材料的刻蚀；在机械工程领域常用于硅材料的深槽刻蚀，以及MEMS（微机电系统）表面工艺中的浅硅刻蚀；除此之外，在纳米技术、生物技术、光学技术等领域也有潜在的应用价值。 探索更多 ICP电感耦合等离子刻蚀机（双腔） PL-800(ICP) 电感耦合等离子刻蚀机在多个领域有着广泛的应用，主要包括有，在电子与通信技术领域可用于二氧化硅、应变硅、碳化硅、多晶硅栅结构、III-V族化合物等半导体材料的刻蚀，以及金属导线、金属焊垫等金属材料的刻蚀；在机械工程领域常用于硅材料的深槽刻蚀，以及MEMS（微机电系统）表面工艺中的浅硅刻蚀；除此之外，在纳米技术、生物技术、光学技术等领域也有潜在的应用价值。 探索更多 RIE反应离子刻蚀机(单腔） PL-200(RIE) 反应离子刻蚀机是半导体工艺中的核心设备之一。在半导体制造工艺中，它利用等离子体能量对硅片进行精细加工，是制造微电子器件的关键步骤。等离子刻蚀机具有高度的精度，可以在微观水平上创建极其复杂的图案。等离子体蚀刻机在半导体行业中的应用非常广泛。它不仅可以用于蚀刻半导体材料，如硅和磷等，还可以用于制造芯片和电路。此外，反应离子刻蚀机还在微电子、微机电系统(MEMS)和纳米技术应用制造等领域发挥着重要作用。 探索更多 PECVD等离子化学气相沉积设备（双腔） PL-800(PECVD) 等离子化学气相沉积设备是半导体行业中常用的一种薄膜沉积技术，用于生产高质量的薄膜层，如介电层、低介质材料等，这些薄膜对于提高半导体器件的性能和可靠性至关重要。在光电子器件的生产中，PECVD技术被用于沉积高质量的介电薄膜和光学薄膜，以制造激光器、光学调制器、光纤传感器等器件。PECVD也被用于硅基光电子器件的生产，这些器件在光通信和集成光学中具有重要应用。PECVD在半导体、新能源、生物医学、电子以及材料学等领域都有着重要作用，随着技术的不断进步和应用领域的不断扩大，这项技术将在更多领域发挥重要作用并推动相关产业的发展 探索更多 ICP CVD电感耦合等离子化学气相沉积设备(单腔） PL-200(ICP CVD) 电感耦合等离子化学气相沉积设备在半导体行业中有着广泛的应用，如制备氮化硅（SiN）、氧化硅（SiO2）等介质薄膜，这些薄膜在半导体器件中起着重要的作用，作为绝缘层、钝化层或保护层等。还可以用于制备非晶硅（a-Si）等半导体材料，用于太阳能电池、薄膜晶体管等领域。利用ICP CVD技术可以制备具有优异性能的复合材料，如纤维状或晶须状的沉积物，这些沉积物可以作为复合材料的增强相，提高复合材料的力学性能和热稳定性。 探索更多 ICP CVD电感耦合等离子化学气相沉积设备（双腔） PL-800(ICP CVD) 电感耦合等离子化学气相沉积设备在半导体行业中有着广泛的应用，如制备氮化硅（SiN）、氧化硅（SiO2）等介质薄膜，这些薄膜在半导体器件中起着重要的作用，作为绝缘层、钝化层或保护层等。还可以用于制备非晶硅（a-Si）等半导体材料，用于太阳能电池、薄膜晶体管等领域。利用ICP CVD技术可以制备具有优异性能的复合材料，如纤维状或晶须状的沉积物，这些沉积物可以作为复合材料的增强相，提高复合材料的力学性能和热稳定性。 探索更多 PECVD等离子化学气相沉积设备（单腔） PL-200(PECVD) 是半导体行业中常用的一种薄膜沉积技术，用于生产高质量的薄膜层，如介电层、低介质材料等，这些薄膜对于提高半导体器件的性能和可靠性至关重要。在光电子器件的生产中，PECVD技术被用于沉积高质量的介电薄膜和光学薄膜，以制造激光器、光学调制器、光纤传感器等器件。PECVD也被用于硅基光电子器件的生产，这些器件在光通信和集成光学中具有重要应用。PECVD在半导体、新能源、生物医学、电子以及材料学等领域都有着重要作用，随着技术的不断进步和应用领域的不断扩大，这项技术将在更多领域发挥重要作用并推动相关产业的发展 探索更多 IBE离子束刻蚀机（4寸） IBE-100 离子束刻蚀机以其高精度和高可控性，在半导体制造、微电子与光电子、MEMS（微机电系统）、生物医学、纳米材料制备、数据存储与磁记录以及航空航天等多个高科技和工业领域发挥着关键作用。它利用高能离子束对材料表面进行轰击，使材料原子发生溅射，从而达到刻蚀的目的。这种刻蚀技术能够制造出极细微的器件结构，提高芯片的性能和稳定性，同时也可在各类材料的表面制造纳米级结构，如纳米线、纳米孔等，这对于纳米电子学、生物医学等领域具有重要意义。此外，离子束刻蚀机还可用于光学器件制造，对光学器件的表面进行微小处理，改善表面质量，制造精细结构，从而提高光学器件的性能和效率。 探索更多 IBE离子束刻蚀机（6寸） IBE-150 离子束刻蚀机以其高精度和高可控性，在半导体制造、微电子与光电子、MEMS（微机电系统）、生物医学、纳米材料制备、数据存储与磁记录以及航空航天等多个高科技和工业领域发挥着关键作用。它利用高能离子束对材料表面进行轰击，使材料原子发生溅射，从而达到刻蚀的目的。这种刻蚀技术能够制造出极细微的器件结构，提高芯片的性能和稳定性，同时也可在各类材料的表面制造纳米级结构，如纳米线、纳米孔等，这对于纳米电子学、生物医学等领域具有重要意义。此外，离子束刻蚀机还可用于光学器件制造，对光学器件的表面进行微小处理，改善表面质量，制造精细结构，从而提高光学器件的性能和效率。 探索更多 IBE离子束刻蚀机（3寸） IBE-75 离子束刻蚀机以其高精度和高可控性，在半导体制造、微电子与光电子、MEMS（微机电系统）、生物医学、纳米材料制备、数据存储与磁记录以及航空航天等多个高科技和工业领域发挥着关键作用。它利用高能离子束对材料表面进行轰击，使材料原子发生溅射，从而达到刻蚀的目的。这种刻蚀技术能够制造出极细微的器件结构，提高芯片的性能和稳定性，同时也可在各类材料的表面制造纳米级结构，如纳米线、纳米孔等，这对于纳米电子学、生物医学等领域具有重要意义。此外，离子束刻蚀机还可用于光学器件制造，对光学器件的表面进行微小处理，改善表面质量，制造精细结构，从而提高光学器件的性能和效率。 探索更多 IBSD双离子束溅射镀膜沉积设备（4寸） IBSD-100 双离子束溅射辅助沉积镀膜是在单离子束溅射技术的基础上发展起来的，在主溅射源基础上增加辅助离子源。可用于溅射沉积各种金属、合金、Ⅲ-Ⅴ族 化合物及半导体材料的单层薄膜、多层薄膜，也可将单质材料通过反应合成氧化物、氮化物、碳化物等薄膜。 探索更多 COMET电源 COMET射频电源供电系统由阻抗匹配网络、射频发生器和真空电容等关键部件组成，能够精确控制硅晶圆盘和玻璃基片的等离子体处理工艺，确保产品的高品质与高性能。 探索更多 Edwards涡轮分子泵 涡轮分子泵是利用高速旋转的动叶轮将动量传给气体分子，使气体产生定向流动而抽气的真空泵。涡轮分子泵的主要作用是在真空系统中产生和维持高真空度。通过高速旋转的动叶轮与气体分子的相互作用，将气体分子从真空系统中抽出，从而达到降低系统内部气体压力的目的。 探索更多 新闻动态 在此部分，您可以了解易科微最新动态 探索更多 公司新闻 行业资讯 媒体报道 2025-03-28 易科微亮相 2025 上海慕尼黑电子生产设备展 两款设备展现半导体创新实力 2025-03-27 易科微资质证书 2025-03-03 易科微——创新驱动下的发展华章 2025-03-04 世界首款！我国成功研制出这一芯片 2025-03-04 北京设立1000亿元政府投资基金 支持人工智能和机器人产业发展 2025-03-01 小尺寸FPGA如何发挥大作用 2025-03-01 可满足严苛要求的高精度60mm感应式位置传感器 2024-12-25 上海集成电路产业再添新平台 2025-03-05 全国人大代表、华中科技大学副校长冯丹：支持共建“算法-数据-存储”联合实验室 2025-03-05 政府工作报告再提新质生产力，全国两会聚焦AI、半导体... 2025-02-27 2024年13类主要半导体设备中国大陆进口金额同比增加8.5％ 2025-02-27 剑指千亿！武汉光谷启动建设化合物半导体、存储器等四大产业创新街区 2024-10-31 国家集成电路创新中心河南分中心在此地揭牌 如果您有合作意向或者疑问-请点击按钮填写信息我们将会与您联系 探索更多 微信扫码添加 李经理 手机号 13530078608 电话 +86-755-21061579 邮箱 sales@szekeme.com 地址 深圳市光明区华强创意园4A栋401 产品展示 等离子刻蚀机 等离子沉积设备 离子束刻蚀机 离子束沉积设备 精密元器件 服务支持 服务支持 质量方针 常见问题 新闻资讯 公司新闻 行业资讯 媒体报道 关于我们 公司介绍 企业文化 联系我们 友情链接： 微波去胶机 ROEMHELD夹爪气缸 PFA橙色管 脂质体挤出仪 等离子清洗机 等离子清洗机 Copyright©2024 易科微电子（深圳）有限公司    粤ICP备123456789号 法律声明 网站地图

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